2022 أحدث منصات التصفية الكيميائية للتصميم - صفائح السليلوز عالية النقاء خالية من المعادن ومستقرة - جدار رائع

مزايا محددة

يقدم مقاومة كيميائية عالية بشكل استثنائي في التطبيقات القلوية والحمضية
مقاومة كيميائية وميكانيكية جيدة جدا
بدون إضافة مكونات معدنية ، وبالتالي محتوى أيون منخفض
لا يوجد محتوى رماد تقريبًا ، وبالتالي الرماد الأمثل
امتصاص منخفضة الصلة بالرسوم
قابلة للتحلل
أداء أعلى
انخفاض حجم الشطف ، مما يؤدي إلى انخفاض تكاليف العملية
تقلصت خسائر التنقيط في أنظمة المرشح المفتوح

التطبيقات:

عادة ما يتم استخدامه في توضيح الترشيح ، والترشيح قبل مرشح الغشاء النهائي ، وترشيح إزالة الكربون المنشط ، وترشيح إزالة الميكروبات ، وترشيح إزالة الغرويات الدقيقة ، وفصل المحفز واستعادة الخميرة.

يمكن استخدام أوراق مرشح عمق سلسلة Great Wall C لترشيح أي وسائط سائلة ومتاحة في درجات متعددة مناسبة لتقليل الميكروبات بالإضافة إلى الترشيح الدقيق والتوضيح ، مثل حماية خطوة ترشيح الغشاء اللاحقة وخاصة في ترشيح النبيذ مع محتوى الغروي الحدودي.

التطبيقات الرئيسية: النبيذ ، البيرة ، عصائر الفاكهة ، الأرواح ، الطعام ، الكيمياء الجميلة/التخصص ، التكنولوجيا الحيوية ، الأدوية ، مستحضرات التجميل.

المكونات الرئيسية

Great Wall C Series Series Depth Medium مصنوع فقط من مواد السليلوز عالية النقاء.

تقييم الاحتفاظ النسبي

*تم تحديد هذه الأرقام وفقًا لطرق الاختبار الداخلية.
*أداء الإزالة الفعال لأوراق المرشح يعتمد على شروط العملية.